磁控濺射儀報(bào)價(jià)磁控濺射儀報(bào)價(jià) 型號:KM1-SD-900M庫號：M402591  

原理：

在磁控濺射中，由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動，其運(yùn)動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到提高，可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以

改善薄膜的質(zhì)量。同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。

參數(shù)：

?主機(jī)規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）

?靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）

?靶材：Au（標(biāo)配）

?樣品室：玻璃腔體160mm×120mm（D×H）

?靶材尺寸：Ф50mm

?高真空度：≤ 4X10-2 mbar

?大電流：100mA

?定時器：數(shù)碼計(jì)時 0-999S

?鍍膜面積：50mm

?微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

?可通入氣體：多種

?高電壓：-1600 DCV

?機(jī)械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置2L/S（國產(chǎn)VRD-8）

?冷卻方式：冷水機(jī)（可根據(jù)實(shí)驗(yàn)具體要求自備）

?速率：0--60nm/min

用途：

1、適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）觀察前對樣品的噴金、噴鉑。

2、非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作（噴金、噴鉑。噴銀等）

3、其他可以滿足條件的鍍膜實(shí)驗(yàn)。

特點(diǎn)：

1、成膜速率高。

2、基片溫度低，可以對溫度敏感的材料進(jìn)行鍍膜。

3、可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜。

4、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小，顆粒大小約4-20nm。

5、SETPLASMA手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

6、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。

7、同時可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到細(xì)顆粒的涂層。

8、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到純凈的涂層。